尼康宣布推出新一代具有 5 倍缩小投影倍率的 i-line 步进式光刻机“NSR-2205iL1”，预计 2024 年夏季上市。

　　据称，这种光刻机具有缩小投影放大系统，支持功率半导体、通信半导体和 MEMS 等多种产品，并且与尼康现有的 i-line 曝光设备高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。

　　尼康表示，与现有的尼康 i-line 曝光系统相比，NSR-2205iL1 具有出色的经济性，无论晶圆材料如何，都可以优化各种半导体器件的生产。

　　注：这是尼康 25 年来（从 1999 年“NSR-2205i14E2”开始接单时计算）首次推出投影倍率降低 5 倍的新型 i-line 曝光系统。